Прозреваю, будут рассказывать про ламелларную технологию.

(посмотрел)

А вот в одном месте гражданин ошибается: современный процесс обозначается "X нм" не с потолка, а по размеру дифракционного зазора в УФ-литографии.

А разве "нанометры" не вычисляют из площади ячейки SRAM? Я не раз встречал утверждение, что "X nm" образуется именно так. Иначе, кстати, при переходе на EUV должен был бы произойти невероятный скачок "нанометров" -- чего, на самом деле, не было.

Крысёныш
> при переходе на EUV должен был бы произойти невероятный скачок "нанометров"

На самом деле нет, в ЖУФ-области спектра вместо линз нужны пластинки Френеля, у них свои ограничения. Есть тема с апериодическими зеркалами, но тема пока что уж очень отдельная.

C17H19NO3
Чё-т я в схематике тех принтеров не заметил френелевских линз, но неважно: если мы говорим о "дифракционном зазоре" (что бы это ни значило), ЖУВ предлагает кратно уменьшенные параметры.

Но на самом-то деле речь идёт о реальных структурах в кремнии, а не о фото-масках. И там "нанометры" считаются, исходя из площади ячейки памяти. Что не так уж и ужасно, как по мне.